工艺条件对硼掺杂纳米硅薄膜微结构及力学性能的影响

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真空科学与技术学报

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第２９卷第２期

２００９年３、４月

工艺条件对硼掺杂纳米硅薄膜微结构

及力学性能的影响

了建宁１．２郄宏山１。

袁宁—２何宇亮’程广贵１范粪１潘海彬‘王君雄１王秀琴２

（１．江苏大学微纳米科学技术研究中心镇江２１２０１３；２．江苏工业学院常州２１３０１６）

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摘要采用射额和直流偏压（ＲＦ＋ＤＣ）双薰激励源，在等离子体增强化学气稳沉积（ＰＥＣ、街）系统中成功制备了掺硼缡米硅薄膜。改变衬底温度、射频功率和遐火温度几个关键工艺参数，利用拉曼（Ｒ—一）谱仪、薄膜测厚仪和原子力显微镜（肘Ｍ）对掺硼缡米硅薄膜的微结搀进行了分柝；应用纳米联痕法研究了王艺条件聪薄膜弹性模囊及硬度等力学性能的影嚷关系。绩果表