Onyx中压紫外线-AOP高级氧化技术

中压高强度UV灯是在近些年研制出来的。它在600-800℃温度和104-106Pa压

力下工作，产生多色光照射。中压紫外灯的波谱范围广，大约在180nm-480nm

之间。功率较高，可达1000-1500W。

中压紫外线-AOP高级氧化技术能有效地将细菌病毒杀灭，并且病菌在其照射下

的光复活率要低于低压系统，从而保证了灭菌效果。此外，该技术对饮用水中危害人体健康的微量有机物也有较好的处理效果。

在处理过程中，高性能中压紫外灯放射出高能量的紫外线，通过一个石英晶体管进入水体中。同时，加入到饮用水中的氧化剂H2O2，在紫外线的照射下被激活，产生一种氧化性极强的氧化性基团，称为羟基自由基（?OH），其产生过程如下所示：

H2O2 hλ→2?OH

在反应式中羟基自由基?OH，量子产率为1，即1爱因斯坦的被吸收的紫外光子

可以产生1摩尔的羟基自由基。?OH是目前所知的最强的氧化剂之一（在酸性溶液中，电位是E°= 2.7V），大量的羟基自由基与水中的溶解性污染物发生强烈的氧化反应，最终可将有机污染物进行完全氧化或矿化，在很短的时间内就可以达到理想的处理效果[4-5]。

中压紫外线-AOP高级氧化技术的成功主要是由于在紫外线的辐射下，羟基自由

基与有机污染物的氧化反应速度有了大幅提高，大约是各种氧化剂单独氧化效果的1，000-1，000，000倍。研究表明，UV/ H2O2能有效降解去除水中低浓度的多种用脂肪烃和芳香烃有机污染物，也能使水中的三卤甲烷、农药、杀虫剂、三氯乙烯，内分泌干扰物等化学污染物的浓度下降90%以上。该系统的工艺设计如下图所示：

安力斯公司开发了中压紫外线-AOP高级氧化技术（1500W中压紫外灯 H2O2系统），并将其应用在相对处理难度更高的污废水处理中。实验表明，该系统对制药厂废水、印染厂废水、电化厂废水、污水厂出水处理效果良好，COD去除率分别达到64.1%、75.8%、63%、56.3%。其中，经过处理后的污水厂出水可达到一级B的水平，吨水处理成本在0.16元左右（仅考虑电费和药剂投加费用）。若将该系统用于饮用水处理中，吨水处理成本将再降低50%。