07 有机合成中的保护基1

 
07 有机合成中的保护基1

第六章 有机合成中的保护基
Protecting Groups in Organic Synthesis

保护基团(Protecting Groups): 将不希望发生反应的部位保护起来成为衍生物 形式,待达到目的后再恢复到原来的官能团。 下列情况考虑应用保护基团: 保护一些基团后能控制反应的区域选择性

保护某些基团后能提高反应的立体选择性 保护某些基团后有利于多种产物的分离

理想的保护基的条件
①选择性地、容易地与被保护的基团反应,达到高

的转化率。
②与保护基反应后所生成的结构部分在其他官能团

的反应过程中是稳定的,保护基不会受破坏。
③当反应结束后,可以方便地裂解脱去,脱去的保

护基易于从反应物中分离除去。
④同时需要考虑到所用的保护基是容易得到的,反 应易操作,少污染等因素。

Contents
1.
2. 3. 4. 5.

羟基的保护
酮或醛的保护 氨基的保护

羧基的保护
其他基团的保护

7.1 羟基的保护
?核苷、糖类、甾体、氨基酸或多肽等带羟基的化合物 ?进行氧化、酰化、卤化、水解等反应时,需要对羟基加以保 护。 孤立羟基的保护: 可将其转化成醚、缩醛或缩酮,以及酯。 1,2-二醇或1,3-二醇的保护: 可将其转化成环醚或环酯。 脱保护:烷基醚、醛缩或缩酮类化合物可以用酸水解, 酯类化合物可用碱水解,苄基醚可催化氢解。

7.1.1 醚类保护基
1. 甲醚, MeOR
I. 保护

(1)Me2SO4, MeOH, Bu4N+I-,有机溶剂, 产率 60—90%;
(2)MeI, 碱; (3)CH2N2 硅胶 /HBF4 定量的转化

II. 稳定性
? 甲醚在pH= 1-14范围是稳定的,强碱、亲核试剂、 氧化剂、有机金属试剂、催化氢化、氢化物还原剂 等均不受影响。 Ⅲ.去保护

(1) Me3SiI/CHCl3, (2) Lewis酸,如,BBr3, CH2Cl2。 (3) 浓HI

2. 苄醚 BnOR, PhCH2OR I. 保护 氯苄或溴苄与羟基经烷基化反应制备

II. 稳定性
pH= 1-14范围是稳定的,对于碳正离子、亲核试剂、有机金 属试剂、氢化物还原剂以及部分氧化剂是稳定的

III. 去保护
氢解的方法:催化氢解或可溶金属(钠,钾液氨) 氢解

3. 取代苄醚——三苯甲基醚 TrOR, Ph3COR
主要用于糖类、核苷和核酸类化合物中的羟基的保护 ,对碱性条件和亲核试剂稳定,在酸性条件下脱除 优点:位阻较大,比较容易与羟基反应也容易脱除 I. 保护 三苯基氯甲烷在弱碱性条件下与伯醇或仲醇反应

II. 去保护
酸性条件下 (1) 80% HOAc (2) 20%CF3COOH,CH2Cl2 (3)HCOOH,Et2O

4. 甲氧基甲醚(MeOCH2OR,MOMOR)
甲氧基取代的甲基醚, 保护后——缩甲醛的结构

?保护
氯甲基甲醚或甲醛缩二甲醇将羟基甲基化

II. 稳定性
在pH = 4-12稳定,对于亲核试剂、有机金属试剂、氢化物 还原剂,催化氢化,以及氧化剂是稳定




III. 去保护
HCl/MeOH; HCl/THF; H2SO4/HOAc

5. 硅烷基醚(R3SiOR)
是一类重要的保护基, 含有活泼氢基团都可以用硅烷化保护 反应活性顺序: ROH>ArOH>COOH>NH>CONH>SH

去 保 护: 酸或碱都可以去保护 水解速度: 一级硅醚>二级硅醚 脂肪醇硅醚 >芳香醇硅醚 水解活性顺序: COOSiR3>NHSiR3>CONHSiR3>SSiR3

(1)三甲基硅醚(Me3SiOR,TMSOR)
最简单的硅醚保护基

?保护
Me3SiCl, (Me3Si)2NH, (Me3Si)2O, (NHSiMe3)2C=O 等试剂进 行硅烷化反应

注意:1. 三甲基硅醚不稳定,遇水即分解,所以制 备时要保持无水环境 2. 亲核试剂,氢化反应,氢化物还原有影响 3. 只是用于暂时性的保护。

II. 稳定性
遇水即分解;亲核试剂,氢化反应,氢化物还原有影响

III. 去保护
?遇水即分解,一般用酸或碱水解。 ?氟化钾、甲醇-水 ? 四丁基氟化铵/THF非质子体系

(2)三异丙基硅醚,TIPSOR I. 保护: 由(i-Pr)3SiCl烷硅烷化羟基制得 II. 稳定性: 比三甲基硅醚稳定的多,可用于亲核反应, 有机金属试剂,氢化还原以及氧化反应 III. 去保护:氟化试剂:氟化氢水溶液,氟化四丁胺 特点:体积比较大,可选择性的保护羟基

(3)叔丁基二甲基硅醚(TBDMSOR) I.保护: t-BuMe2SiCl或t-BuMe2SiOTf,碱性条件下与醇反应 特点:体积大,选择性保护伯羟基

II. 稳定性: PH=4-12稳定,亲核试剂,有机金属试剂,氢化还原和 氧化
III. 去保护: 氟化试剂:氟化氢水溶液,氟化四丁胺(TBAF)

TBS = TBDMS= t-BuMe2Si-

7.1.2 酯类保护基
主要保护基:乙酸酯、苯甲酸酯和2,4,6-三甲基苯甲酸 酯等 优点:酸性条件下比醚类保护基稳定 缺点:由于引入羰基,而羰基易发生亲核,水解以及 还原等 保护:用酸酐或酰氯在碱性条件下与醇反应制得
去保护:碱水解或碱醇解法,或氨的醇溶液氨解 稳定性:pH=1-8稳定。 对有机金属试剂,催化氢化, 硼氢化物,路易斯酸,氧化反应等稳定

乙酸酯(AcOR) 乙酰化: 用醋酸酐与醇反应制得 去保护: 甲醇钠/甲醇或氨/甲醇

苯甲酸酯(PhCOOR)

保护:苯甲酰氯在碱性条件下与羟基反应制得
稳定性:比乙酸酯稳定, 去保护:酸或碱水解,或氢化铝锂还原法

伯胺存在下,醇能选择性地苯甲酰化

7.1.3 二醇的保护
保护: 酸性催化下与醛或酮形成环状缩醛或缩酮 常用的醛酮:丙酮,环己酮,苯甲醛,缩二醇等 稳定性:碱性稳定,氢化铝锂还原,钠-汞齐还原 催化氢化, 以及一般氧化剂,CrO3/py NaIO4, Pb(OAc)4, KMO4稳定 去保护:酸催化:盐酸/乙醇, TFA/水

7.2 醛、酮的保护
醛酮的反应性很强,容易与亲核试剂,还原 试剂,氧化试剂反应 保护剂原则:改变羰基碳的正电性和不饱和度 同时要考虑保护


基团的易离去 选择保护方法:与醇、二醇生成缩醛,缩酮

7.2.1 缩醛,缩酮
醛,酮在酸催化下与两分子的醇反应,失去一分子水得到缩醛、 缩酮,常用催化剂有:对甲苯磺酸和氯化氢

稳定性:pH=4-12稳定 酸性下不稳定 碱,氧化剂,还原剂稳定 去保护:稀酸水溶液或稀酸,水/THF等

缩二甲醇 优点:结构易鉴定,在核磁氢谱中甲基的单峰易于辨认 脱保护后,甲醇易从体系中分离出去

1,2-二醇,1,3-二醇
与醛或酮形成五元环或六元环,比较稳定 在氢化铝锂还原条件下稳定 酸性条件下去保护

二硫代缩醛、缩酮

保护:醛酮在酸催化下与两分子的硫醇反应,硫代缩醛、 缩酮, 常用催化剂:三氟化硼-乙醚,氯化锌,三氟醋酸锌
稳定性:对酸稳定性好,pH = 1-12稳定,耐金属试剂、亲核试 剂和部分氧化剂,但容易使金属催化剂中毒,不宜用于催化氢化 反应中

去保护:氯化汞水溶液,银盐,铜盐,钛盐等催化 水解,N-溴带丁二酰亚胺,I2/DMSO

7.3 氨基的保护
氨基活性:1. 伯胺或仲胺的活泼氢 2. 氮上的孤对电子的亲核性 保护方法:1. 转化成叔胺,常用苄基,三甲基硅保护 2. 转成酰胺或氨基甲酸酯

7.3.1 N-烷基化和N-三烷基化保护
烃化保护:苄基氯,苄溴 条件:氢氧化钾(钠),碳酸钾。 稳定性:强碱,亲核试剂,氢化物 去保护:Pd-C/甲酸铵还原

硅烷胺(N-SiR3)

比如:三甲基硅基 条件:三甲基氯硅烷在三乙胺(吡啶)存在下与胺反应。 稳定性:遇水,醇分解。

7.3.2 N-酰化保护
乙酰基 ,Ac保护:乙酸酐(乙酰氯) +无机碱(碳酸钾,氢氧化钠等) 或有机弱碱(三乙胺等)或DCC脱水等 稳定性: pH= 1-12,对亲核试剂稳定 去保护: 酸 碱 催化水解

三氟乙酰基,CF3CO上保护:三氟醋酸酐+有机碱(三乙胺,吡啶) 脱保护: 容易,在碳酸钾水/甲醇溶液

苯甲酰基, PhCO保 护:苯甲酰氯+ 有机碱(三乙胺,吡啶)+胺 去保护:6N盐酸(溴化氢的乙酸溶液) 氢氧化钠浓碱溶液 稳定性: pH= 1-14 亲核试剂,有机金属试剂(有机锂除外) 催化氢化,氢化物还原

7.3.3 氨基甲酸酯 (CH3)3OC(O)NR2, R2NBoc
? 一类重要的氨基保护基 ? 最具代表性的:氨基甲酸叔丁酯和氨基甲酸苄酯 ? 上保护:叔丁氧基甲酸酐,碱性条件下与氨基反应

? 稳定性:pH = 1-12范围内稳定。亲核试剂,有机 金属试剂,非酸性条件下的催化氢化,氢化物还 原和氧化反应等条件下稳定
? 脱保护:强酸催化,如:浓HCl,TFA等

7.4 羧基的保护
基本方法:形成酯 保护基团:叔丁基, 苄基,甲基,乙基,三甲硅基 保 护:1.酸和醇共沸脱水 2.酰氯和醇反应 3.酸盐和卤代烷 4.使用脱水剂,如DC


C 去保护:1.甲酯:酸、碱水解; 2.叔丁基:酸水解 3.苄酯:催化氢化; 4. 三甲硅脂:酸、碱水解

7.4 其他基团的保护
1. 乙炔衍生物活泼氢
保护原因:炔氢具有明显的酸性,可以与活泼金属 强碱,强氧化剂以及金属有机试剂反应 保护:三烷基硅烷基(Me3Si-,Et3Si-) 脱保护:银盐, 碱性水解


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