化工工业实验室去离子水介绍

化工工业实验室去离子水介绍

去离子水是指除去了呈离子形式杂质后的纯水。国际标准化组织 ISO/TC 147规定的“去离子”定义为：“去离子水完全或不完全地去 除离子物质。”现在的工艺主要采用RO反渗透的方法制取。应用离子 交换树脂去除水中的阴离子和阳离子，但水中仍然存在可溶性的有机物， 可以污染离子交换柱从而降低其功效，去离子水存放后也容易引起细菌 的繁殖。

去离子水技术要求参数：

名称
PH值范围（25℃）： 电导率（us/cm25℃）： 电阻率（M/cm25℃）：

一级
0.1 10

二级
1 1

可氧化物质（以0计）mg/L：
吸光度（245nm/1cm光程）： 蒸发残渣（105 ±2℃）mg/L：

0.001 -

0.08
0.1 1

可溶性硅（以sio2计）mg/L：

0.01

0.02

去离子水一般包装规格：

规格
500ml 1000ml 10KG 25KG

电导率
0.1us/cm 0.1us/cm 0.1us/cm 0.1us/cm

电阻率
10M 10M 10M 10M

包装
瓶装 瓶装 桶装 桶装

1000KG

0.1us/cm

10M

水塔装

去离子水生产工艺：
预处理 —— RO处理 —— EDI膜堆处理 —— UV紫外线 —— 纳米级精过滤 — — 在线水质检测 —— 灌装系统 —— 取水点

去离子水主要用途：
1、实验室分析，配制标准液； 2、化工配料、研磨材料、五金工具； 3、油漆、涂料、油墨； 4、电瓶叉车加水、各种铅酸电池水； 更多内容请访问久久建筑网
5、机器冷却循环，锅炉补水； 6、制药、电子、电镀、喷镀产品； 7、表面处理及各种高水质要求用水； 8、电子工业生产：如显像管玻壳、显像管、液晶显示器、电路板、计算机硬盘、 晶硅半导体等； 集成电路芯片、单



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